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      碳化硅膜,碳化硅膜廠家

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      電鍍園區廢水回用設備

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      電鍍園區廢水回用設備


      • 電鍍園區廢水回用設備

      • 詳細介紹

      采用微濾-反滲透組合工藝處理100t/天電鍍漂洗水

          電鍍工業是我國重要的加工業,據粗略估計,全國電鍍廠家超過15000多家,每年排放的電鍍廢水約有4億噸,其中電鍍鎳廢水約為1.3億噸。由于電鍍廢水中含有重金屬,以及在電鍍工藝中加入的各種化工原料,因此電鍍廢水屬于高濃度難降解工業廢水和高濃度有毒有害廢水,不經處理會給環境帶來嚴重污染,對人類危害極大。目前國內電鍍行業污染治理設施基本是采用末端化學處理法,雖然可達標排放,但無法從源頭減少電鍍料液的用量和廢水的排放量。因此,為在電鍍行業中開展清潔生產,必須改革工藝流程,在源頭和過程中減少污染物的產生量。


      工藝介紹: 

          電鍍中水回用技術,包括還原、中和、沉淀、過濾、加壓和反滲透步驟,其特征在于其中反滲透步驟安排在中和步驟之前,其工藝步驟如下:

          (1)破氰:在含氰清 洗水中添加適量次氯酸鈉,以破壞-CN與金屬離子所 形成的絡合狀態,使劇毒-CN被氧化,金屬離子呈游離狀態;
          (2)還原:含鉻清洗水添加適量焦亞硫酸鈉,將其中的Cr6+還原成Cr3+;
          (3)管式微濾膜過濾:將包括含氰清洗水經破氰、含鉻清洗水經還原以及其它清洗水的綜合清洗水經過管式微濾膜過濾,以除去其中0.1以上的微粒;
          (4)加壓:用高壓泵加壓,使其壓力大于滲透壓;
          (5)反滲透:采用中性抗污染反滲透膜脫鹽,產生RO水,金屬離子及其它雜質被截留在濃水中;
          (6)RO水中和:用氫氧化鈉調整RO水的pH值,達到回用的要求,替代自來水回用于電鍍清洗過程;
          (7)濃水中和:用氧化鈣中和,調節其酸性,同時使其中的金屬離子與-OH生成氫氧化物,SO42-與Ca2+生成硫酸鈣;

          (8)沉淀:濃水中和 后進入沉淀池,中和過程生成的氫氧化物和硫酸鈣被沉淀,上清液過濾達標排放,沉淀物排入污泥池。



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